因为不仅仅会禁止全球光刻机企业出售DUV光刻机设备,同时在氟化氩(ArF)有关的技术等等都会遭到“禁止”,要知道氩氟浸没式光刻技术对于16nm以及更加先进工艺制程的芯片产品生产,能够起到极为重要的作用,16纳米或更小尺寸的双极型生产至关重要,而目前,三星和SK海力士都在我们国内设有NAND内存和DRAM工厂,所以韩国半导体工业协会已经正式向美国政府提出申请,希望三星、SK海力士这两家芯片制造商能够被“豁免”,避免韩国在中国所建设的芯片生产制造厂也受到影响。
发布时间:2026-03-03 13:13:06文章来源:河南成人高考招生教育信息网
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